A.盐酸和二氧化硅不反应,不能用于在玻璃上进行刻蚀,故A错误;B.氢氟酸与二氧化硅易反应,生产四氟化硅气体,反应的化学方程式为:4HF+SiO2=SiF4↑+2H2O,能在玻璃上进行刻蚀,故B正确;C.二氧化硅与烧碱反应,但反应缓慢,生产的硅酸钠和二氧化硅难以分离,不能用于在玻璃上进行刻蚀,故C错误;D.纯碱与二氧化硅在高温下反应,不能用于在玻璃上进行刻蚀,故D错误;故选B.