常温就可以了。 氢氟酸是弱酸,常温下可以和硅反应,只不过反应速率很小,所以不容易察觉,但是提高温度时反应速度迅速增加,反应如下:根本原因是四氟化硅是气体,挥发了。 Si + 4HF = SiF4(g) + H2(g) 另外二氧化硅能跟其反应,同样是四氟化硅是气体。 SiO2 + 4HF = SiF4(g) + 2H2O
无需条件,常温接触即可反应
没有条件,接触就行了
常温直接反应