二次电子像和背散射电子像在显示表面形貌衬度时有何相同与不同之处

二次电子：在入射电子束作用下被轰击出来并离开样品表面的样品原子的核外电子叫做二次电子。二次电子一般都是在表层5~10nm深度范围内发射出来的，它对样品的表面形貌十分敏感，因此，能非常有效的显示样品的表面形貌。二次电子的能量较低，一般不超过50eV。大多数二次电子只带有几个电子伏的能量。这是一种真空中的自由电子。由于原子核和外层价电子的结合力能很小，因此外层的电子比较容易和原子脱离，使原子电离。一个能量很高的入射电子射入样品时，可以产生许多的自由电子，这些自由电子中90%是来自样品原子外层的价电子。二次电子像主要是反映样品表面10nm左右的形貌特征，像的衬度是形貌衬度，衬度的形成主要取于样品表面相对于入射电子束的倾角。
如果样品表面光滑平整（无形貌特征），则不形成衬度；而对于表面有一定形貌的样品，其形貌可看成由许多不同倾斜程度的面构成的凸尖、台阶、凹坑等细节组成，这些细节的不同部位发射的二次电子数不同，从而产生衬度。
二次电子像分辨率高、无明显阴影效应、场深大、立体感强，是扫描电镜的主要成像方式（特别适用于粗糙样品表面的形貌观察），在材料及生命科学等领域有着广泛的应用

二次电子主要显示形貌衬度,背散射同时还可以表现成分衬度,但形貌衬度表现的不如二次电子.背向电子源的不能被接收,所以分辨能力稍差